プラズマ質問箱

原子層堆積法ALDに比べ原子層エッチングALEは実用されているのか見えにくいのですが、製造プロセスで現在使用されているのでしょうか？

ALDはパターニングやゲート酸化膜、配線材料の拡散を防ぐためのバリア層など多く実用がされていると思うのですが、ALEは一部ロジック半導体でセルフアラインコンタクトに使われているかもしれませんが、ALDに比べアプリケーションは報告されていません。