No.001
プラズマが衝く～半導体プロセスの40年～ 更新日：2025年4月18日
教育
その他
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講師名
石川 健治
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所属
名古屋大学低温プラズマ科学研究センター
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形式
動画
概要
コロナパンデミック然り，世の中で量が２倍や半分にスケールで変わっていくことに驚きをもって遭遇する．今や世界の携帯電話普及率は人口辺りで１００％を超えてしまった．どうも，この発端を遡れば半導体プロセスのスケーリング則にあるらしい．そして，その根幹は４０年以上も前の，日本を発端するプラズマプロセスへの挑戦であった．
※本動画はプラズマソサエティが運営する先進半導体プラズマプロセスコンソーシアム（CASPP）の第1回講座について、講師の承諾の元に特別に公開するものです。
0:00:00 プロローグ
0:03:32 石川教授 自己紹介
0:04:23 技術の歴史
0:06:47 エレクトロニクスの歴史
0:11:24 生命の進化. 情報化の成熟
0:14:40 情報処理の要. 半導体
0:17:59 MOS型トランジスタとスケーリング則
0:23:55 半導体部品 論理回路, メモリ
0:26:51 レジストマスクとパターン転写
0:30:39 小まとめ
0:31:35 講師・モデレータのディスカッション
0:37:55 反応性イオンエッチング(1970s)異方性
0:44:33 Hosokawa's invention
0:47:01 反応性イオンエッチングの原理
0:48:40 高アスペクト比構造
0:49:22 小まとめ
0:50:15 講師・モデレータのディスカッション
0:55:03 まとめ（半導体プロセス40年とプラズマ）
0:56:15 プラズマは何をしたのか？
0:57:11 プラズマが衝く
1:00:51 エピローグ
