半導体製造における原子層プロセスの物理

講師

半導体デバイスの進化は、ここ数年でサブナノメートル・ノードのデバイスが実用化される勢いであるが、その製造プロセスには、原子レベルの精度のエッチングや薄膜堆積の技術が必要不可欠である。本講座では、近年話題を集めている原子層堆積（ALD）・原子層エッチング(ALE)プロセスの概要を基礎から解説する。また、今後進展すると考えられる人工知能（AI）/機械学習（ML）のプロセス開発・制御への応用についても、最近の研究動向を紹介する。

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レポート作成：堤　隆嘉（名古屋大学低温プラズマ科学研究センター）