洗浄技術の2nmデバイス量産への挑戦

半導体デバイスの製造歩留り向上のために洗浄プロセスは非常に大きな役割を果たしている。微細化によるデバイスの進化の過程における洗浄プロセス・装置の移り変わりとその要因を振り返り、更に進化する最先端半導体デバイスのための将来の洗浄技術を俯瞰する。

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レポート作成：関根 誠（名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター）