イノベーションが生まれる時　～高密度プラズマ，チャージングダメージ，日本のドライエッチング技術が世界をリードした1980～1990 年代，そして今，産学連携のあるべき姿～

高密度プラズマエッチング装置の実用化，チャージングダメージの研究等，1980～1990年代に日本のドライエッチング技術は世界をリードしました。本講演では，講師が携わった研究・開発事例を紹介するとともに，なぜ日本で時代を先取りするような数多くのイノベイティブな研究・開発がなされたのかを分析します。そして，半導体業界の構図が大きく変化した今，どのようにしたらイノベーションを起こすことができるかを論じます。

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レポート作成： 堤　隆嘉（名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター）