サタデーモーニング講座
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終了
新規強誘電体は強誘電体をメインメモリにしうるか？ ―強誘電体材料の進捗―
日時
6月 8日（土） 09:00～10:00 （8:45 Open）
終了
会場
オンライン（Microsoft Teams）
概要
舟窪 浩
東京工業大学
モデレータ
堀 勝
名古屋大学低温プラズマ科学研究センター
強誘電体は2000年前後にメモリとしての応用が検討され、交通系カード等で実用化されたが期待のマーケットサイズは得られなかった。2010年以降トランジスターのゲート酸化物の材料であるHfO2や、高周波フィルタで実用化されているAlNで強誘電性が見いだされた。高いＳｉプロセス整合性や10nm以下でも安定して特性が得られること、低消費電力化が実現できる等のこれら材料の特長と、今後の可能性について議論をしていただきます。
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レポート作成：堤 隆嘉（名古屋大学低温プラズマ科学研究センター）
